真空電弧離子的原理是基冷陰極自持弧光放電結(jié)合脈沖技術(shù)及磁控濺射技術(shù)，使沉積粒子細(xì)化，膜層的各項(xiàng)性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進(jìn)行鍍膜而且能在非金屬制品表面制品上進(jìn)行鍍膜，可以鍍金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜，并能在極短的時(shí)間內(nèi)完成全部加工工藝過(guò)程，是一種多功能高效鍍膜設(shè)備。

　　為了實(shí)際實(shí)現(xiàn)狀態(tài)反饋控制規(guī)律，必須采用可直接測(cè)量的控制對(duì)象輸入與輸出，根據(jù)鍍膜儀建立確定狀態(tài)的動(dòng)態(tài)系統(tǒng)，稱(chēng)其為觀測(cè)器。由輸出確定控制規(guī)律本身的動(dòng)態(tài)系統(tǒng)稱(chēng)為動(dòng)態(tài)補(bǔ)償器。

　　基于狀態(tài)方程式進(jìn)行控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)的主要特點(diǎn)之一是在確定控制規(guī)律后，獨(dú)立進(jìn)行這種狀態(tài)估計(jì)器的設(shè)計(jì)。也就是說(shuō)，除了控制對(duì)象的構(gòu)造之外，都是利用算法計(jì)算求出來(lái)的。這樣就構(gòu)成了既包含外部環(huán)境在內(nèi)的控制對(duì)象，又能使閉環(huán)穩(wěn)定且能跟蹤目標(biāo)值的系統(tǒng)。但鍍膜儀廠家的設(shè)計(jì)人員感到困難的問(wèn)題是在給出具體設(shè)計(jì)指標(biāo)后，究竟利用評(píng)價(jià)函數(shù)還是利用極點(diǎn)配置的方法問(wèn)題。

　　為解決這個(gè)問(wèn)題，通常是改變?cè)u(píng)價(jià)函數(shù)，再根據(jù)控制系統(tǒng)特性的變化，尋求出*評(píng)價(jià)函數(shù)，對(duì)此需要反復(fù)進(jìn)行幾次才行。

　　鍍膜儀的系統(tǒng)控制往往采用階梯狀或塊狀的線性自由系統(tǒng)輸出來(lái)表達(dá)外干擾和目標(biāo)值的形式。因此，在現(xiàn)代控制理論中，特別是將這種控制系統(tǒng)稱(chēng)為“伺服系統(tǒng)”。這種伺服系統(tǒng)的設(shè)計(jì)建立包含有干擾和目標(biāo)值等控制對(duì)象的外部環(huán)境模型，對(duì)于與控制對(duì)象組合的全系統(tǒng)，尋求狀態(tài)反饋規(guī)律。